Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O2/Ar plasma discharge

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标题	Simulation of cryogenic silicon etching under SF6/O2/Ar plasma discharge SF6/O2/Ar等离子体放电低温硅刻蚀模拟
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/1.49666...
DOI	10.1116/1.4966606 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Yehya Haidar; Ahmed Rhallabi; Amand Pateau; Arezki Mokrani; Fadia Taher; et al 出版日期：2016-11-15
求助人	Gavin 在 2025-02-17 10:25:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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