Development of a High Metal Ionization Physical Vapor Deposition System for High Aspect Ratio Through-Glass-Via Metallization

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标题	Development of a High Metal Ionization Physical Vapor Deposition System for High Aspect Ratio Through-Glass-Via Metallization
网址	https://doi.org/10.1109/icept67137.2025.11157438
DOI	10.1109/icept67137.2025.11157438 doi
其它	期刊：作者：Ting Li; Hongsheng Yang; Zhiqiang Chen; Xiaobo Hu; Anan Fang; et al 出版日期：2025-08-05
求助人	小鱼在 2026-07-24 11:17:17 发布自四川，悬赏 10 积分
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