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标题
Numerical Simulation of Polycrystalline Silicon Thin-Film Deposition via an Anisotropic Porous Medium Model in an LPCVD Tubular Reactor
相关领域
材料科学 计算机模拟 各向异性 化学气相沉积 沉积(地质) 多孔介质 复合材料 微晶 多孔性 多孔硅 化学工程 矿物学 多晶硅 光电子学
网址
DOI
10.1021/acs.iecr.6c00132 doi
其它 期刊:Industrial & Engineering Chemistry Research
作者:Weilong Lei; Chuangen Xu; Jixinyu Yao; Tianyi Liu; Haolin Chen; et al
出版日期:2026-07-08
求助人
失踪的卢汪汪 在 2026-08-28 09:57:20 发布自美国,悬赏 10 积分
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