| 标题 |
Simulation study of illumination effects in high-NA EUV lithography |
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| DOI |
10.1117/12.2315091
doi
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| 其它 |
期刊:Computational Optics II 作者:Mohamed Ismail; Peter Evanschitzky; Andreas Erdmann; Eelco van Setten; Gerardo Bottiglieri; et al 出版日期:2018-05-29 |
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(2025-6-4)