| 标题 |
 Evaluation of accelerated reticle lifetime testing using different applied bias voltages at EBL2 相关领域
十字线
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平版印刷术
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极端紫外线
垂直的
分层（地质）
堆栈（抽象数据类型）
电压
各向异性
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| DOI |
10.1117/12.3117709
doi
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| 其它 |
期刊： 作者：Jetske Stortelder; Shyama Ramankutty; Corné Rijnsent; Ruben Betsema; Leon Arkesteijn 出版日期：2026-09-24 |
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