Evaluating OPC performance on novel EUV masks: Mo/Si vs Ru/Si multilayer effects on high-NA random logic via designs

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标题	Evaluating OPC performance on novel EUV masks: Mo/Si vs Ru/Si multilayer effects on high-NA random logic via designs
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3119883
DOI	10.1117/12.3119883 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2026 作者：Ling Ee Tan; Jeroen Van de Kerkhove; Fergo Treska; Christina Baerts; Bhavishya Chowrira; et al 出版日期：2026-10-30
求助人	ADChem_JH 在 2026-11-02 07:32:14 发布自安徽，悬赏 20 积分
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