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 Enhanced anisotropy in advanced semiconductor nanofabrication via ultralow electron temperature plasma for cryogenic etching 相关领域
材料科学
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Min-Seok Kim; Jeong Sun Ahn; Dohyun Kim; Seunggyun Ha; Chin‐Wook Chung 出版日期：2025-10-18 |
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