| 标题 |
 Atomic layer deposition of high-k and metal thin films for high-performance DRAM capacitors: A brief review 相关领域
德拉姆
电容器
动态随机存取存储器
原子层沉积
材料科学
晶体管
光电子学
化学气相沉积
纳米技术
薄膜
金属绝缘体金属
计算机科学
电气工程
电子工程
计算机硬件
工程类
电压
半导体存储器
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
AllRightReserved
无极微光
Simon
ffrrss
luoyan
arniu2008
学术文献互助
CRISPR
8R60d8
moon
嘻嘻哈哈
畔畔
敬老院N号
蓝天
dde
916
糊涂的雅琴
pluto
didiwang
皖公网安备34019202002308
