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 Energy-dependent film growth of Cu and NiTi from a tilted DC magnetron sputtering source determined by calorimetric probe analysis 通过量热探针分析确定倾斜直流磁控溅射源中Cu和NiTi的能量相关薄膜生长
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材料科学
薄膜
溅射沉积
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薄脆饼
溅射
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期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Felix Schlichting; Lars Thormählen; Julia Cipo; Dirk Meyners; Holger Kersten 出版日期：2022-10-26 |
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