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 Layer-by-layer NH3 plasma treatment for area-selective atomic layer deposition of high-quality SiO2 thin films 相关领域
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期刊：Journal of Chemical Physics 作者：Sanghun Lee; Seunggi Seo; Tae Hyun Kim; Hwi Yoon; Seonyeong Park; et al 出版日期：2025-03-28 |
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