Optimizing Photoresist Strip to reduce fluorine outgassing causing bubble defect

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标题	Optimizing Photoresist Strip to reduce fluorine outgassing causing bubble defect 优化光刻胶条减少氟脱气导致气泡缺陷相关领域光刻胶放气材料科学薄脆饼气泡氟退火（玻璃）氧化物硅形成气体兴奋剂纳米技术复合材料光电子学图层（电子）化学冶金有机化学并行计算计算机科学
网址	https://doi.org/10.1109/asmc54647.2022.9792491
DOI	10.1109/asmc54647.2022.9792491 doi
其它	期刊：作者：Yujie Xiao; Shuhong Sun; Ghit Guan Goh; Guanyu Zhou; Kim Foong Kong 出版日期：2022-05-02
求助人	Gaoge 在 2025-12-08 14:15:43 发布自北京，悬赏 10 积分
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