| 标题 |
 Cu Intercalation-stabilized 1T'-MoS2 with Electrical Insulating Behavior 具有电绝缘行为的Cu插层稳定1T’-MoS2
相关领域
插层（化学）
材料科学
复合材料
工程物理
业务
化学
物理
无机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：arXiv (Cornell University) 作者：Huiyu Nong; Junyang Tan; Yujie Sun; Rongjie Zhang; Yue Gu; et al 出版日期：2025-02-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
冰魂
cdercder
科研助手6
昏睡的蟠桃
jenningseastera
可千万不要躺平呀
平常的毛豆
bc
椰子在长江送礼物
谈笑间
就叫柠檬吧
iNk
王十
pluto
pcr163
Alex
LaTeXer
子车茗
maox1aoxin
ShawnLyu
皖公网安备34019202002308
