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 A spectroscopic ellipsometry study of the abnormal scaling behavior of high-rate-deposited microcrystalline silicon films by VHF-PECVD technique 相关领域
等离子体增强化学气相沉积
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材料科学
微晶硅
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期刊：Acta Physica Sinica 作者：Jinhua Gu; Yanli Ding; Shi-e Yang; Xiaoyong Gao; Yongsheng Chen; et al 出版日期：2009-01-01 |
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