| 标题 |
Etch characteristics of Si and TiO2 nanostructures using pulse biased inductively coupled plasmas |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:S. Kim; K. Yang; Y. Shin; K. Kim; Dongwoo Kim; et al 出版日期:2020-03-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)