Application of hydrosilane-free atmospheric pressure chemical vapor deposition of SiOx films in the manufacture of crystalline silicon solar cells

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标题	Application of hydrosilane-free atmospheric pressure chemical vapor deposition of SiOx films in the manufacture of crystalline silicon solar cells 无氢硅烷常压化学气相沉积SiOx薄膜在晶体硅太阳电池制造中的应用相关领域材料科学硅化学气相沉积等离子体增强化学气相沉积化学工程薄膜沉积（地质）晶体硅太阳能电池非晶硅硅烷燃烧化学气相沉积
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2020.138338
DOI	10.1016/j.tsf.2020.138338 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Esmail Issa; Henning Nagel; Jonas Bartsch; Markus Glatthaar; Edda Rädlein 出版日期：2020-11-01
求助人	hhh 在 2025-11-30 12:17:04 发布自江苏，悬赏 10 积分
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