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 Novel approach for KrF chemically amplified resist optimization assisted by deep learning 相关领域
抵抗
材料科学
纳米技术
光电子学
图层（电子）
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Chen Tang; Toshiaki Tanaka; Atsushi Sekiguchi; Yoshihiko Hirai; Masaaki Yasuda 出版日期：2024-12-01 |
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(2025-6-4)
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