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Enhancing RRAM Reliability: Exploring the Effects of Al Doping on HfO2-Based Devices
相关领域
电阻随机存取存储器 可靠性(半导体) 兴奋剂 材料科学 光电子学 工程物理 电子工程 纳米技术 可靠性工程 电气工程 工程类 物理 电压 热力学 功率(物理)
网址
DOI
10.1109/tdmr.2025.3581061 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
作者:Andrea Baroni; Eduardo Pérez; Keerthi Dorai Swamy Reddy; Stefan Pechmann; Christian Wenger; et al
出版日期:2025-06-18
求助人
忧郁宛海 在 2026-03-19 16:21:11 发布自新加坡,悬赏 10 积分
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