| 标题 |
 Reaction mechanism for HF based cryogenic plasma etching of SiO2 相关领域
蚀刻（微加工）
基质（水族馆）
材料科学
等离子体
吸附
反应离子刻蚀
分析化学（期刊）
缩放比例
氩
反应机理
反应速率
催化作用
动力学
等离子体刻蚀
化学
光电子学
干法蚀刻
化学动力学
纳米技术
化学工程
各向同性腐蚀
半导体
机制（生物学）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yeon Geun Yook; Hyunjae Lee; Sang Ki Nam; Mark J. Kushner 出版日期：2026-04-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
Nole
cdercder
OK
东方元语
aajhajkahna
123
xing_xing
Criminology34
小何
cat
科研狗
心态好
GingerF
aaaa
张欢馨
渡人舟
贪玩的秋柔
牧青
大力的图图
皖公网安备34019202002308
