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 Area-selective atomic layer deposition of Al2O3 on SiNx with SiO2 as the nongrowth surface 相关领域
原子层沉积
二甲基硅烷
表面改性
钝化
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化学
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图层（电子）
椭圆偏振法
化学工程
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Wanxing Xu; Ryan J. Gasvoda; Paul C. Lemaire; Kashish Sharma; Dennis M. Hausmann; et al 出版日期：2021-12-16 |
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