标题 |
Ferroelectricity in dopant-free HfO2 thin films prepared by pulsed laser deposition
脉冲激光沉积无掺杂HfO2薄膜的铁电性
相关领域
材料科学
铁电性
脉冲激光沉积
掺杂剂
薄膜
退火(玻璃)
兴奋剂
电介质
光电子学
纳米技术
分析化学(期刊)
复合材料
色谱法
化学
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