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Suppression Effect of Split-Gate Structure on Repetitive Avalanche Stress Induced Degradation for SiC MOSFETs 分裂栅结构对SiC MOSFET重复雪崩应力诱导退化的抑制作用
相关领域
降级(电信)
材料科学
压力(语言学)
MOSFET
光电子学
随时间变化的栅氧化层击穿
工程物理
电子工程
电气工程
栅氧化层
工程类
晶体管
电压
语言学
哲学
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Zhaoxiang Wei; Jiaxing Wei; Hao Fu; Lei Huang; Yu Tian; et al 出版日期:2024-10-03 |
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