Investigating pathways for deep-UV photolithography of large-area nanopost-based metasurfaces with high feature-size contrast

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标题	Investigating pathways for deep-UV photolithography of large-area nanopost-based metasurfaces with high feature-size contrast 相关领域光刻材料科学对比度（视觉）特征（语言学）高对比度纳米技术光电子学光学物理语言学哲学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003947
DOI	10.1116/6.0003947 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Skyler Palatnick; Demis D. John; Maxwell A. Millar‐Blanchaer 出版日期：2024-10-29
求助人	强哥在 2026-01-05 09:31:51 发布自河北，悬赏 10 积分
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