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Significant improvement of endurance of Si FeFET through minor hysteresis loop and narrow write pulse width 通过较小的磁滞回线和较窄的写入脉冲宽度显著提高Si FeFET的耐久性
相关领域
材料科学
光电子学
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期刊:Applied Physics Express 作者:Jiahui Duan; Hao Xu; Jinjuan Xiang; Xiaolei Wang; Wenwu Wang 出版日期:2022-11-14 |
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