| 标题 |
 Atomic-scale study on nanoparticle removal mechanism during post-Cu CMP cleaning process using ReaxFF MD 相关领域
雷亚克夫
纳米颗粒
吸附
铜
化学机械平面化
分子
化学工程
柠檬酸
氢氧化铵
氢氧化物
无机化学
化学
离解（化学）
化学键
氢键
材料科学
水溶液
金属
粒子（生态学）
接触角
化学反应
表面改性
分子动力学
解吸
表面能
键裂
溶解
纳米技术
静电学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
cdercder
大力的冬萱
Copyright
liuzhuohao
Nole
行走的荷尔蒙
ale
arniu2008
OK
Avalonx
sanvva
认真的不评
无情的聪健
初景
Oracle
lizishu
昏睡的蟠桃
学术文献互助
pluto
皖公网安备34019202002308
