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 CF4 plasma-based atomic layer etching of Al2O3 and surface smoothing effect CF4等离子体原子层刻蚀Al2O3及其表面平滑效应
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Chien-Wei Chen; Wen-Hao Cho; Chan-Yuen Chang; Chien-Ying Su; Nien‐Nan Chu; et al 出版日期：2022-12-30 |
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