| 标题 |
 20nm Line/space patterns in HSQ fabricated by EUV interference lithography EUV干涉光刻技术制备HSQ中20nm线/空间图案
相关领域
极紫外光刻
倍半硅氧烷氢
干涉光刻
材料科学
平版印刷术
抵抗
光刻胶
多重图案
下一代光刻
模版印刷
干扰（通信）
光电子学
线条宽度
电子束光刻
直线（几何图形）
光学
纳米技术
物理
计算机科学
计算机网络
替代医学
几何学
数学
图层（电子）
病理
制作
医学
频道（广播）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Microelectronic Engineering 作者：Yasin Ekinci; Harun H. Solak; Celestino Padeste; J. Gobrecht; Mark P. Stoykovich; et al 出版日期：2007-02-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
cdercder
潇洒的惋清
GingerF
烟消云散
Kao
Criminology34
phdbio
369ninja
OK
无极微光
小透明
嘻嘻哈哈
火星上的菲鹰
soilman
瘦瘦的邪欢
WFGodot
初景
破学校不买爱斯维尔
平常千万
皖公网安备34019202002308
