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Plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO2 film using capacitively coupled Ar/O2 plasmas: A computational investigation
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0001121
DOI
10.1116/6.0001121 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Chenhui Qu; Yukinori Sakiyama; Pulkit Agarwal; Mark J. Kushner
出版日期：2021-08-03
求助人
无花果 在 2025-10-28 17:33:02 发布自湖南，悬赏 10 积分
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