Line top loss and line top roughness characterizations of EUV resists

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标题	Line top loss and line top roughness characterizations of EUV resists 相关领域抵抗极紫外光刻材料科学临界尺寸光学表面光洁度表面粗糙度极端紫外线直线（几何图形）扫描电子显微镜邻近效应（电子束光刻）电子束光刻光电子学纳米技术物理激光器复合材料数学几何学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2551623
DOI	10.1117/12.2551623 doi
其它	期刊：作者：Daniel Schmidt; Karen Petrillo; Mary Breton; Jennifer Fullam; Seán Hand; et al 出版日期：2020-03-20
求助人	荟萃分析在 2025-10-27 10:56:57 发布自山西，悬赏 20 积分
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