| 标题 |
Properties of Silicon Dioxide Film Deposited By PECVD at Low Temperature/Pressure |
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10.5937/metmateng1402089m
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| 其它 |
期刊:Metallurgical and Materials Engineering 作者:Meysam Zarchi; Shahrokh Ahangarani; Maryam Zare Sanjari 出版日期:2014-07-30 |
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