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标题
Properties of Silicon Dioxide Film Deposited By PECVD at Low Temperature/Pressure
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DOI
10.5937/metmateng1402089m doi
其它 期刊:Metallurgical and Materials Engineering
作者:Meysam Zarchi; Shahrokh Ahangarani; Maryam Zare Sanjari
出版日期:2014-07-30
求助人
霜幕 在 2026-09-06 14:50:58 发布自湖北,悬赏 10 积分
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