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In Situ Monitoring of Surface Reactions during Atomic Layer Etching of Silicon Nitride Using Hydrogen Plasma and Fluorine Radicals |
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Kazuya Nakane; René H. J. Vervuurt; Takayoshi Tsutsumi; Nobuyoshi Kobayashi; Masaru Hori 出版日期:2019-09-12 |
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