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标题
Ferroelectricity in undoped-HfO2 thin films induced by deposition temperature control during atomic layer deposition
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DOI
10.1039/c6tc02003h doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry C
作者:Kyung Do Kim; Min Hyuk Park; Hong Jip Kim; Yoon Jun Kim; Taehwan Moon; et al
出版日期:2016-01-01
求助人
七饭饭 在 2026-07-23 10:57:24 发布自湖南,悬赏 10 积分
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