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标题
Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties
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网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.157895
DOI
10.1016/j.apsusc.2023.157895 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Sung‐Tae Kim; Ung-gi Kim; Jinseok Ryu; Do Kyun Kim; Miyoung Kim; et al
出版日期：2023-06-26
求助人
Felix0917 在 2026-03-14 12:38:00 发布自江苏，悬赏 10 积分
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