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标题
Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties
相关领域
材料科学 溅射 二次离子质谱法 溅射沉积 微观结构 分析化学(期刊) 无定形固体 扫描电子显微镜 兴奋剂 化学工程 复合材料 纳米技术 薄膜 离子 化学 光电子学 有机化学 工程类
网址
DOI
10.1016/j.apsusc.2023.157895 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Sung‐Tae Kim; Ung-gi Kim; Jinseok Ryu; Do Kyun Kim; Miyoung Kim; et al
出版日期:2023-06-26
求助人
Felix0917 在 2026-03-14 12:38:00 发布自江苏,悬赏 10 积分
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