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HfO2 on MoS2 by Atomic Layer Deposition: Adsorption Mechanisms and Thickness Scalability |
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期刊:ACS Nano 作者:Stephen John McDonnell; Barry Brennan; Angelica Azcatl; Ning Lü; Hong Dong; et al 出版日期:2013-10-14 |
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(2025-6-4)