Effect of 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid (PBTCA) on Cu/Ta chemical mechanical planarization (CMP) in the barrier layer: A novel complexing agent and the dual role on Cu

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标题	Effect of 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid (PBTCA) on Cu/Ta chemical mechanical planarization (CMP) in the barrier layer: A novel complexing agent and the dual role on Cu
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.surfin.2024.103969
DOI	10.1016/j.surfin.2024.103969 doi
求助人	BAOYu 在 2026-11-04 18:31:30 发布自湖北，悬赏 10 积分
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