High-rate deposition of ultrathick bismuth films by direct-current magnetron sputtering

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标题	High-rate deposition of ultrathick bismuth films by direct-current magnetron sputtering
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2025.114385
DOI	10.1016/j.vacuum.2025.114385 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：D. C. Goodelman; G. Taylor; E. Kim; M. J. Stafford; Dong-Xia Qu; et al 出版日期：2025-05-01
求助人	方可在 2026-10-13 16:21:37 发布自山东，悬赏 20 积分
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