Etching suppression of silicon nitride by ammonium fluorosilicate formation during cryogenic NF3/NH3 plasma reactive ion etching

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标题	Etching suppression of silicon nitride by ammonium fluorosilicate formation during cryogenic NF3/NH3 plasma reactive ion etching
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0005206
DOI	10.1116/6.0005206 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：In Young Bang; Ga Eun Hwang; Hyo Jong Shin; Yoon Joo Jeong; Ye Jun Cheon; et al 出版日期：2026-04-17
求助人	Superbird 在 2026-10-01 15:35:19 发布自中国，悬赏 10 积分
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