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CO2‐Based Dual‐Tone Resists for Electron Beam Lithography |
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期刊:Advanced Functional Materials 作者:Xin‐Yu Lu; Hao Luo; Kai Wang; Yao‐Yao Zhang; Xiao‐Feng Zhu; et al 出版日期:2020-11-30 |
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(2025-6-4)