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 Etching characteristics and mechanism of Pb(Zr,Ti)O3 thin films in CF4/Ar inductively coupled plasma CF4/Ar电感耦合等离子体中Pb（Zr，Ti）O3薄膜的刻蚀特性及机理
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期刊：Vacuum 作者：Alexander Efremov; D.P Kim; K.T Kim; C.I Kim 出版日期：2004-05-31 |
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