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标题
Multi-Step Chemical Solution Deposition-Annealing Process Toward Wake-Up Free Ferroelectricity in Y:HfO2 Films
Y：HfO2薄膜无唤醒铁电性的多步化学溶液沉积-退火工艺
相关领域
材料科学 铁电性 薄膜 氧气 退火（玻璃） 电极 电介质 光电子学 纳米技术 复合材料 化学 物理化学 有机化学
网址
http://dx.doi.org/10.1002/admi.202100907
DOI
10.1002/admi.202100907 doi
求助人
chfvHJSNK 在 2025-11-12 04:34:24 发布自湖南，悬赏 10 积分
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