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  Fabrication of a 100 × 100 mm2 nanometer-thick graphite pellicle for extreme ultraviolet lithography by a peel-off and camphor-supported transfer approach 用剥离和樟脑负载转移法制备100 × 100 mm2纳米厚的极紫外光刻石墨薄膜
相关领域
纳米
石墨
材料科学
紫外线
制作
樟脑
极紫外光刻
平版印刷术
纳米技术
紫外线辐射
复合材料
光电子学
化学
放射化学
有机化学
替代医学
病理
医学
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| 其它 |
期刊：Nanoscale Advances 作者：Ki‐Bong Nam; Qicheng Hu; Jin-Ho Yeo; Mun Ja Kim; Ji‐Beom Yoo 出版日期：2022-01-01 |
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