| 标题 |
Vacancy-type defects induced by grinding of Si wafers studied by monoenergetic positron beams 相关领域
空位缺陷
退火(玻璃)
材料科学
晶体缺陷
多普勒展宽
薄脆饼
位错
正电子
正电子湮没谱学
湮没辐射
谱线
辐照
结晶学
凝聚态物理
正电子湮没
分析化学(期刊)
分子物理学
冶金
化学
光电子学
核物理学
物理
电子
复合材料
色谱法
天文
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Akira Uedono; Yoriko Mizushima; Young-Suk Kim; T. Nakamura; Takayuki Ohba; et al 出版日期:2014-10-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)