Atomic layer deposition of ultrathin indium oxide and indium tin oxide films using a trimethylindium, tetrakis(dimethylamino)tin, and ozone precursor system

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标题	Atomic layer deposition of ultrathin indium oxide and indium tin oxide films using a trimethylindium, tetrakis(dimethylamino)tin, and ozone precursor system
网址	https://doi.org/10.1116/1.5058171
DOI	10.1116/1.5058171 doi
其它	期刊：作者：无法获取出版日期：
求助人	哈吉米在 2026-01-26 21:08:23 发布自四川，悬赏 10 积分
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7个月前，求助关闭

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7个月前

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