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 NBTI reliability on high-k metal-gate SiGe transistor and circuit performances 高k金属栅SiGe晶体管NBTI可靠性与电路性能
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期刊：Microelectronics reliability/Microelectronics and reliability 作者：J.S. Yuan; Wen Kuan Yeh; Shuyu Chen; Chia Wei Hsu 出版日期：2011-05-01 |
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