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 Characteristics of high aspect ratio SiO2 etching using C4H2F6 isomers C4H2F6异构体高宽高比SiO2刻蚀特性研究
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期刊：Applied Surface Science 作者：Hye Joo Lee; Hyun Woo Tak; Seong Bae Kim; Seul Ki Kim; Taehyun Park; et al 出版日期：2023-08-06 |
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