| 标题 |
Direct chemical lithography writing on 2D materials by electron beam induced chemical reactions 相关领域
平版印刷术
电子束光刻
材料科学
阴极射线
纳米技术
化学反应
模版印刷
化学物理
电子
化学
抵抗
光电子学
物理
有机化学
量子力学
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanoscale Advances 作者:Iryna Danylo; Lukáš Koláčný; Kristína Kissíková; Tomáš Hartman; Martina Pitínová; et al 出版日期:2025-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)