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Long-range Tersoff potential for silicon to reproduce 30° partial dislocation migration
硅再现30°部分位错迁移的长程Tersoff势
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网址
https://doi.org/10.1016/j.commatsci.2023.112557
DOI
10.1016/j.commatsci.2023.112557 doi
其它 期刊：Computational Materials Science
作者：Atsuo Hirano; Hiroki Sakakima; Asuka Hatano; Satoshi IZUMI
出版日期：2023-10-19
求助人
神勇的砖头 在 2025-08-05 12:50:24 发布自江苏，悬赏 10 积分
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