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 Indium tin oxide etch characteristics using CxH2x+2(x=1,2,3)/Ar 使用CxH2x+2(x=1,2,3)/Ar的铟锡氧化物蚀刻特性
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Jong Woo Hong; Hyun Min Cho; Yu Gwang Jeong; Da‐Woon Jung; Yun Jong Yeo; et al 出版日期：2023-02-21 |
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