Testing low-temperature atomic layer deposition of aluminum oxide in a 36” chamber

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标题	Testing low-temperature atomic layer deposition of aluminum oxide in a 36” chamber 相关领域原子层沉积氧化铝图层（电子）沉积（地质）材料科学铝氧化物冶金复合材料地质学沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2322344
DOI	10.1117/12.2322344 doi
其它	期刊：作者：David M. Fryauf; Andrew C. Phillips; Nobuhiko P. Kobayashi; Michael Bolte; Aaron Feldman; et al 出版日期：2018-09-11
求助人	ziliz 在 2025-10-27 20:37:26 发布自海南，悬赏 20 积分
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