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 HfO2 Area Selective Deposition via Substrate-Dependent Area Selective Atomic Layer Etching 基于衬底的区域选择性原子层蚀刻的HfO2区域选择性沉积
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Landon Keller; Seung Keun Song; Hannah R. M. Margavio; Sarah E. Atanasov; Jiun-Ruey Chen; et al 出版日期：2025-02-24 |
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