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Influence of UV-ozone treatment on the performance of HfO2 films and indium aluminum zinc oxide thin film transistors
相关领域
材料科学 薄膜晶体管 铟 锌 铝 晶体管 光电子学 氧化铝 薄膜 臭氧 氧化物 纳米技术 冶金 图层(电子) 电气工程 气象学 电压 工程类 物理
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2025.109833 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:Weidong Xu; Xiao Feng; Xianjin Feng
出版日期:2025-07-15
求助人
早晚会疯 在 2026-05-09 15:08:29 发布自中国,悬赏 10 积分
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